全自动太阳能硅片清洗机的研制

【摘要】：全自动太阳能硅片清洗机是对脱胶预清洗之后的硅片进行进一步的清洗。为了保证得到洁净的硅片,除了采用碱溶液清洗之外,清洗设备还增加了浸泡、超声清洗、抛动、鼓泡等清洗工艺,提高了硅片的清洗质量和可靠性,保证了硅片的清洗合格率。采用先进的自动控制系统,不仅能满足客户的现有工艺要求,还可以根据用户的需求进行不同的工艺配置。 【作者单位】： 中国电子科技集团公司第二研究所;
【关键词】： 太阳能硅片 超声清洗 工艺配置
【分类号】：TN305.97
【正文快照】： 全自动太阳能硅片清洗机工作原理是利用超声波渗透力强的机械振动冲击硅片表面并结合清洗剂的化学去污作用达到对硅片表面附着的碳化硅、硅粉、金属粉末、油污、悬浮液等杂质的清除,从而获得表面洁净的硅片[1]。随着太阳能行业的高速发展,清洗技术的不断进展,对于太阳能硅片

您可以在本站搜索以下学术论文文献来了解更多相关内容

一种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法    武彩霞;刘玉岭;刘效岩;康海燕;

太阳能级Si片清洗工艺分析    任丽;王平;李艳玲;王安平;褚世君;张兵;李宁;罗晓英;

硅片脱胶技术的现状及发展研究    张峰;司超;

SMT生产工艺和质量控制    贾忠中

晶片去蜡技术综述    杨春明;杨洪星;

光学元件表面的清洗    钟迪生;

冷反光镜镀膜前超声波清洗方法    高德发;

液晶替代清洗剂的试验与研究    

盐雾腐蚀对不同封装形式集成电路性能的影响    杜迎;

一种新的各向异性腐蚀液—乙醇胺水溶液    候承贵,宋登元,雷利明,王永青

Ca膜/Si单晶和Ga膜/C膜的电镜观察    赵黎捷;高巧君;吴自勤;

JC75/光电子T2514．3~(Tex)K纱的开发    李安诚;吕成刚;郝高云;

微波集成电路中的Ta-Ti-Au薄膜    徐春林;

超声空化应用技术空前扩展    

微通道板化学处理工艺研究    张正君

采用液相化学法沉积ZnS缓冲层的研究    余正荣

功率超声多频换能器的研究    何涛

硅微通道阵列结构的化学机械抛光及清洗技术研究    王大鹏