多晶硅（硅单质的一种）被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl_4为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热．研究人员利用SiCl_4水解生成的盐酸和钡矿粉（主要成份为BaCO_3

【专家解说】：解：（1）氯化硅水解生成原硅酸和氯化氢，水解方程式为SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄↓+4HCl，温度高时，氯化硅的水解速率增大，氯化氢的挥发增强，且氯化氢能污染环境，温度较低时，能防止HCl挥发污染环境或控制SiCl₄的水解速率，防止反应过于剧烈，
由盖斯定律可知：将方程式SiCl₄（s）+H₂（g）=SiHCl₃（s）+HCl（g）△H₁=+47kJ/mol和SiHCl₃（s）+H₂（g）=Si（s）+3HCl（g）△H₂=+189kJ/mol相加得SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol，
故答案为：防止HCl挥发污染环境或控制SiCl₄的水解速率，防止反应过于剧烈；SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ/mol；
（2）碳酸钡和盐酸反应生成氯化钡，反应的两种方程式为：BaCO₃+2H⁺=Ba²⁺+CO₂+H₂O↑，故答案为：BaCO₃+2H⁺=Ba²⁺+CO₂+H₂O↑；
（3）当pH=3.4时，铁离子完全生成沉淀，当pH=12.4时，镁离子完全沉淀生成氢氧化镁，Mg（OH）₂，所以当pH=12.5时，滤渣A的成分是氢氧化镁，氢氧化钙；控制温度70℃的目的是确保钙离子完全除去，故答案为：Mg（OH）₂，Ca（OH）₂；确保钙离子完全除去（或温度越高，Ca（OH）₂溶解度越小）；
（4）从溶液中制取固体的方法是：蒸发浓缩→冷却结晶→过滤→洗涤，实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器即为玻璃仪器，有蒸发皿、玻璃棒，酒精灯，故答案为：3；
（5）依据流程分析可知，该工艺中能循环利用的物质是BaCl₂溶液，故答案为：BaCl₂溶液．