四氯化硅与甲烷等离子气相合成碳化硅陶瓷粉末的热力学探讨

【摘要】：本文运用 VAX—11/780型计算机,对 Si—Cl—C—H四元气相体系进行了热力学平衡组成的计算及分析。结果表明,在等离子条件下。由 Si Cl_4和 CH_4气相反应合成 Si C 陶瓷粉末材料是可行的。在2400K 左右的反应温度下,可有较高的 Si Cl_4转化率,研究还发现,反应物中同时过量 CH_4和 H_2有利于获得较高的 Si C收率,降低产品中游离 Si 和游离 C 的含量。 【作者单位】： 中国科学院化工冶金所一室;
【关键词】： 热力学 碳化硅 陶瓷粉末 等离子体反应器 四氯化硅 气相合成 转化率 反应合成 甲烷 平衡分压
【正文快照】： 肩万言 新型高温结构陶瓷材料的研制,目前正引起愈来愈多的人的极大兴趣。而开发新型结构陶瓷的一个主要目标就是超细陶瓷粉末的制备。这种超细粉末,由于极大的表面化学活性,从而有可能在较低温度并且无需加入烧结附加剂的情况下进行烧结。 作为主要陶瓷材料之一的碳化硅,由

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